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更新時間：2023-08-21 
瀏覽次數：763用途：
支持多種應用程序
支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。
特長：
寬帶曝光（與配方聯動的自動切換ghi線gh線，i線）。
搭載可變NA功能（0.16和0.1的可變）。
最多8個字段的條形圖設計格式。
由抗蝕氣體和周邊環境化學保護的光學系統。
規格：
| 型式 | PPS-8200/8300 |
|---|---|
| ウェーハサイズ | 6/8/12インチ |
| 解像力 | 2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚) |
| NA（開口數） | 0.16、0.1可変 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Fieldサイズ | 52mm × 33mm |
| 露光波長 | ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動) |
| レチクルサイズ | 6inch |
| 重ね合せ精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置サイズ／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
| 主要オプション | バックサイドアライメントシステム ウェーハ周辺露光システム ウェーハ周辺非露光システム 薄ウェーハ搬送システム GEM通信対応 インライン対応 |
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